VNR Content
Pearl
Trên thế giới, chỉ có 1 công ty sản xuất cỗ máy EUV trị giá 220 triệu USD, khắc những mẫu mạch mỏng hơn cả sợi tóc con người lên phiến wafer silicon. Đó là ASML, công ty Hà Lan trở thành tâm điểm trong cuộc thương chiến Mỹ - Trung. Việc sở hữu 1 cỗ máy tiên tiến như vậy có ý nghĩa cực kì quan trọng trong việc sản xuất chip 7nm và nhỏ hơn, khiến các cường quốc đều muốn giành quyền ưu tiên đối với thiết bị ASML.
Mới đây, Canon đã công bố 1 cỗ máy khắc chip nanoimprint (NIL) có thể cạnh tranh với EUV của ASML. Công nghệ này đã được Canon theo đuổi hơn 20 năm qua, có thể gia công linh kiện điện tử với điện năng tiêu thụ thấp hơn cỗ máy của ASML. Canon FPA-1200NZ2C không cần tới cơ chế quang học thông thường, cũng không dùng tia cực tím DUV và EUV. Máy khắc nanoimprint chỉ thực hiện 1 bước dập mặt nạ với bố cục transistor đã được định sẵn lên phiến wafer.
Hiện tại, Canon FPA-1200NZ2C có thể thực hiện các đường gia công với bề ngang rãnh tối thiểu là 14nm, tương đương với tiến trình 5nm tiên tiến. Hãng Nhật Bản cho biết đến trình độ cao nhất có thể thu hẹp bề ngang xuống 10nm, tức làm được chip 2nm. Do không sử dụng nguồn sáng đặc biệt như hệ thống EUV, nó cũng tiêu thụ ít điện năng hơn, không cần dùng hóa chất tẩy rửa và làm sạch như quy trình quang khắc.
Mỹ chắc chắn sẽ rất lo ngại nếu những hệ thống như thế này rơi vào tay Trung Quốc. Trong bối cảnh ASML đã bị chặn xuất khẩu máy quang khắc EUV sang Trung Quốc, cỗ máy của Canon giống như cây đũa thần có thể biến tham vọng sản xuất chip tiên tiến 5nm hay 2nm của nước này thành sự thật. Hiện tại TSMC và Samsung đang đặt mục tiêu sản xuất chip 2nm vào năm 2025 dựa trên thiết bị ASML.
Tuy nhiên cần phải làm rõ, NIL vốn là công nghệ đã tồn tại hơn 20 năm qua nhưng ít được chú ý, bởi so với EUV thì nó kém hiệu quả hơn trong việc sản xuất chip phức tạp. Hiện tại, cỗ máy đang được lắp đặt tại cơ sở của Kioxia để sản xuất chip nhớ. Khi được hỏi có giao cỗ máy này sang Trung Quốc hay không, Canon đã từ chối trả lời. Theo các chuyên gia, sớm muộn nó cũng sẽ rơi vào tầm ngắm của Mỹ, nếu đây thực sự là 1 công cụ có thể giúp Trung Quốc sản xuất chip 2nm.
>>> Trung Quốc tự phát triển máy khắc chip 28nm.
Mới đây, Canon đã công bố 1 cỗ máy khắc chip nanoimprint (NIL) có thể cạnh tranh với EUV của ASML. Công nghệ này đã được Canon theo đuổi hơn 20 năm qua, có thể gia công linh kiện điện tử với điện năng tiêu thụ thấp hơn cỗ máy của ASML. Canon FPA-1200NZ2C không cần tới cơ chế quang học thông thường, cũng không dùng tia cực tím DUV và EUV. Máy khắc nanoimprint chỉ thực hiện 1 bước dập mặt nạ với bố cục transistor đã được định sẵn lên phiến wafer.
Hiện tại, Canon FPA-1200NZ2C có thể thực hiện các đường gia công với bề ngang rãnh tối thiểu là 14nm, tương đương với tiến trình 5nm tiên tiến. Hãng Nhật Bản cho biết đến trình độ cao nhất có thể thu hẹp bề ngang xuống 10nm, tức làm được chip 2nm. Do không sử dụng nguồn sáng đặc biệt như hệ thống EUV, nó cũng tiêu thụ ít điện năng hơn, không cần dùng hóa chất tẩy rửa và làm sạch như quy trình quang khắc.
Mỹ chắc chắn sẽ rất lo ngại nếu những hệ thống như thế này rơi vào tay Trung Quốc. Trong bối cảnh ASML đã bị chặn xuất khẩu máy quang khắc EUV sang Trung Quốc, cỗ máy của Canon giống như cây đũa thần có thể biến tham vọng sản xuất chip tiên tiến 5nm hay 2nm của nước này thành sự thật. Hiện tại TSMC và Samsung đang đặt mục tiêu sản xuất chip 2nm vào năm 2025 dựa trên thiết bị ASML.
>>> Trung Quốc tự phát triển máy khắc chip 28nm.
