Nga tuyên bố vượt Trung Quốc trong công nghệ máy in thạch bản EUV!

NhatDuy
NhatDuy
Phản hồi: 0

NhatDuy

Intern Writer
Nếu không có máy in thạch bản tiên tiến, việc sản xuất chip công nghệ cao là điều bất khả thi, ảnh hưởng trực tiếp đến an ninh quốc gia và phát triển công nghiệp. Nga gần đây đặt câu hỏi: Trong cuộc đua phát triển máy in thạch bản EUV, ai sẽ chiếm ưu thế? Họ tuyên bố sở hữu công nghệ cốt lõi và đang đi trước Trung Quốc một bước , nhưng thực tế có đúng như vậy?
1761728313315.png

Tham vọng của Nga và rào cản công nghệ EUV​

Máy quang khắc EUV là công cụ duy nhất để sản xuất chip dưới 7nm, và hiện nay chỉ có ASML (Hà Lan) có thể chế tạo chúng. Công nghệ này cực kỳ phức tạp, yêu cầu độ chính xác gần như tuyệt đối. Nga tự tin vì đã thử nghiệm thành công máy quang khắc 350nm vào cuối năm 2024 và đang phát triển loại 130nm, dự kiến hoàn thành năm 2026. Tuy nhiên, khoảng cách giữa bước sóng 130nm và 13,5nm của EUV là vô cùng lớn.
1761728350045.png

Nga thậm chí đặt mục tiêu phát triển thiết bị 7nm vào năm 2028 và làm chủ công nghệ dưới 10nm trong thập kỷ tới. Dù những kế hoạch này đầy tham vọng, nhưng việc thay đổi mục tiêu liên tục khiến nhiều người hoài nghi về tuyên bố “công nghệ cốt lõi” của họ.

Khác với Nga, Trung Quốc đã đạt tiến triển thực chất. Nhóm nghiên cứu của Lin Nan tại Viện Quang học và Cơ học Tinh tế Thượng Hải đã tạo ra nguồn sáng LPP-EUV dùng laser thể rắn với hiệu suất chuyển đổi 3,42%. Lin Nan từng là trưởng bộ phận công nghệ nguồn sáng của ASML và là học trò của một nhà khoa học đoạt giải Nobel, sở hữu hơn 100 bằng sáng chế quốc tế , nền tảng này mang tính thực chất hơn là lời tuyên bố suông.
1761728403809.png

Cùng lúc, Viện Công nghệ Cáp Nhĩ Tân với nhóm của Triệu Vĩnh Bằng đã đi theo hướng hoàn toàn khác: Tạo ra ánh sáng cực tím 13,5nm bằng năng lượng điện, bỏ qua công nghệ laser truyền thống và giành giải nhất sáng kiến khoa học công nghệ. Cách tiếp cận này giúp Trung Quốc tránh sự phụ thuộc và mở rộng khả năng tự chủ công nghệ.

Khoảng cách vẫn rõ ràng trong cuộc đua công nghệ cao​

Lãnh đạo ASML thừa nhận Trung Quốc đã có bước tiến đáng kể trong công nghệ nguồn sáng EUV, dù việc thương mại hóa hệ thống hoàn chỉnh vẫn cần thời gian. Nhưng việc “gã khổng lồ” này phải công nhận đối thủ là minh chứng rõ ràng cho sức mạnh công nghệ đang trỗi dậy.
1761728464886.png

Trong khi đó, Nga vẫn ở mức công nghệ 350nm, một khoảng cách khổng lồ so với chuẩn EUV. Việc tuyên bố vượt qua Trung Quốc chỉ với công nghệ này là không thực tế. Phát triển máy in thạch bản không chỉ cần khẩu hiệu mà là sự đầu tư đồng bộ vào nghiên cứu, vật liệu và chuỗi cung ứng toàn cầu.

Cuộc cạnh tranh chip là cuộc chiến tổng lực trên toàn bộ chuỗi ngành, và Trung Quốc đang thể hiện khả năng tiến bước vững chắc bằng những thành tựu cụ thể, thay vì những lời hứa mơ hồ. (Sohu)
 


Đăng nhập một lần thảo luận tẹt ga
Thành viên mới đăng
http://textlink.linktop.vn/?adslk=aHR0cHM6Ly92bnJldmlldy52bi90aHJlYWRzL25nYS10dXllbi1iby12dW90LXRydW5nLXF1b2MtdHJvbmctY29uZy1uZ2hlLW1heS1pbi10aGFjaC1iYW4tZXV2LjcyNzMwLw==
Top