Tại sao Nga có khả năng phát triển máy in thạch bản EUV?

N
Nguyễn Văn Sơn
Phản hồi: 0
Máy in thạch bản EUV là thiết bị quan trọng để sản xuất chip tiên tiến. Khó khăn về mặt kỹ thuật trong việc sản xuất máy in thạch bản EUV là không thể tin được. Ngay cả Hoa Kỳ, Nhật Bản và Đức, những nước đầu tiên bắt đầu cuộc đua này, cũng không thể biến kế hoạch EUV của họ thành các sản phẩm cạnh tranh và bị hạn chế cung cấp các bộ phận riêng lẻ cho ASML.
Tuy nhiên, Core Intelligence đưa tin mới đây Nga đã phát triển máy in thạch bản EUV của riêng mình. Bước đột phá lớn này có thể phá vỡ thế độc quyền công nghệ của ASML trong lĩnh vực này và mang lại những thay đổi mới cho ngành bán dẫn toàn cầu. Câu hỏi là tại sao trong bối cảnh bị hàng chục ngàn lệnh cấm vận bủa vây mấy năm qua, Nga vẫn có thể phát triển được máy in thạch bản EUV?
1735095344078.png

Từ những năm 1970, Liên Xô đã nghiên cứu và làm chủ công nghệ quang khắc EUV. Công nghệ nguồn sáng EUV đầu tiên và các thiết bị quang học được cung cấp bởi Nga đã tạo cơ sở cho những phát triển sau này, ngay cả với các công ty hàng đầu như ASML. Các nhà khoa học Nga không chỉ tiếp tục bảo tồn tri thức mà còn cải tiến nó, đóng góp vào sự phát triển của công nghệ quang khắc hiện đại.
Một vấn đề không thể không nhắc đến là Nga có thế mạnh trong các lĩnh vực khoa học cơ bản như toán học, vật lý và hóa học. Những nghiên cứu chuyên sâu về laser năng lượng cao, vật lý plasma và các công nghệ nguồn sáng EUV đã giúp Nga xây dựng được nền tảng vững chắc.
1735095060954.png

Để đạt được mục tiêu này, Nga sẽ sử dụng nguồn sáng laser dựa trên xenon 11,2nm để thay thế hệ thống của ASML dựa trên việc bắn phá bằng laser vào các giọt thiếc (thiếc) kim loại để tạo ra nguồn sáng EUV.
Nguồn sáng là yếu tố khó khăn nhất trong việc sản xuất máy in thạch bản EUV. Nga đã chọn sử dụng nguồn sáng laser dựa trên xenon với bước sóng 11,2nm, thay vì tiêu chuẩn 13,5nm của ASML. Sự đổi mới này không chỉ giúp tăng độ phân giải lên 20% mà còn giảm chi phí sản xuất và kéo dài tuổi thọ của các bộ phận quang học.
Nga không chỉ phát triển nguồn sáng mới mà còn xây dựng một hệ sinh thái hỗ trợ hoàn toàn khác biệt so với tiêu chuẩn của ASML. Điều này bao gồm việc thiết kế lại toàn bộ hệ thống từ gương phản xạ, lớp phủ quang học, đến chất quang dẫn, tất cả đều được tối ưu hóa cho bước sóng mới.
Chiến lược phát triển không phụ thuộc vào ASML
Nga đã chọn con đường phát triển riêng biệt, không sao chép lộ trình kỹ thuật của ASML. Điều này bao gồm việc loại bỏ mặt nạ ảnh trong quá trình in thạch bản, giúp giảm chi phí và thời gian sản xuất.
Nga coi đây là một bước đột phá chiến lược để đối phó với sự độc quyền của ASML và thúc đẩy sự phát triển của ngành bán dẫn toàn cầu. Với sự kiên trì và đổi mới, Nga đã biến thách thức thành cơ hội, phát triển một công nghệ mới hứa hẹn mang tính cạnh tranh cao.
Máy in thạch bản EUV của Nga với quy trình 11,2nm không chỉ mở ra con đường mới cho sản xuất chip tiên tiến mà còn tạo áp lực lên vị thế độc quyền của ASML. Thành tựu này đánh dấu bước tiến quan trọng trong ngành công nghiệp bán dẫn, đưa Nga trở thành một nhân tố đáng gờm trong cuộc đua công nghệ cao.
Tóm lại, nhờ vào nền tảng lịch sử, chuyên môn khoa học, và chiến lược phát triển độc lập, Nga đã vượt qua những rào cản lớn nhất để phát triển máy in thạch bản EUV. Đây không chỉ là thành tựu của riêng Nga mà còn là bước ngoặt quan trọng đối với ngành bán dẫn toàn cầu, mở ra một tương lai cạnh tranh và đổi mới.
 


Đăng nhập một lần thảo luận tẹt ga
Top