Thế Việt
Writer
Theo các nguồn tin quốc tế, Trung Quốc đã đạt được bước tiến quan trọng trong nỗ lực tự chủ công nghệ bán dẫn khi chế tạo thành công nguyên mẫu máy quang khắc siêu cực tím (EUV). Cỗ máy này được hoàn thiện vào đầu năm 2025 tại một phòng thí nghiệm an ninh cao ở Thâm Quyến, đánh dấu cột mốc mới trong cuộc đua công nghệ toàn cầu bất chấp các lệnh cấm vận gắt gao từ phương Tây.
Bước đột phá trong vòng vây cấm vận công nghệ
Nguyên mẫu máy quang khắc EUV vừa được hoàn thiện đang trong quá trình chạy thử nghiệm và đã tạo thành công ánh sáng siêu cực tím, mặc dù chưa thể sản xuất ra các chip hoạt động hoàn chỉnh. Đây là thiết bị tối quan trọng để sản xuất các dòng chip bán dẫn tiên tiến nhất hiện nay, phục vụ cho trí tuệ nhân tạo (AI), điện thoại thông minh và khí tài quân sự. Thành tựu này được xem là lời đáp trả của Bắc Kinh đối với những nỗ lực ngăn chặn của Mỹ kéo dài nhiều năm qua.
Công nghệ quang khắc EUV, vốn dùng để khắc các mạch điện siêu nhỏ lên tấm wafer silicon, hiện là độc quyền của tập đoàn ASML (Hà Lan). Với mức giá lên tới 250 triệu USD mỗi hệ thống, các cỗ máy này là xương sống trong dây chuyền sản xuất của TSMC, Intel hay Samsung để tạo ra chip cho Nvidia và AMD. Kể từ năm 2018, và đặc biệt thắt chặt vào năm 2022 dưới thời Tổng thống Joe Biden, Mỹ đã gây sức ép buộc ASML ngừng bán thiết bị EUV cho Trung Quốc. Thậm chí, các thiết bị quang khắc cực tím sâu (DUV) đời cũ hơn cũng bị đưa vào danh sách hạn chế nhằm nới rộng khoảng cách công nghệ giữa Trung Quốc và thế giới.
Dự án "Manhattan" của ngành bán dẫn Trung Quốc
Để đối phó với tình trạng khan hiếm công nghệ nguồn, Trung Quốc đã khởi động một chiến dịch bí mật cách đây khoảng 6 năm với quy mô và tầm quan trọng được ví như "Dự án Manhattan" – chương trình phát triển bom nguyên tử của Mỹ trong Thế chiến II. Dự án này được đặt dưới sự chỉ đạo của ông Đinh Tiết Tường (Ding Xuexiang), Chủ nhiệm Ủy ban Khoa học và Công nghệ Trung ương, với sự tham gia chủ chốt của tập đoàn công nghệ Huawei.
Tính bảo mật của dự án được đẩy lên mức tối đa. Hàng nghìn kỹ sư và nhân viên của Huawei tham gia dự án phải tuân thủ các quy định nghiêm ngặt như ngủ lại tại chỗ, không được về nhà trong suốt tuần làm việc và bị hạn chế sử dụng điện thoại cá nhân. Các nhóm làm việc được cô lập hoàn toàn với nhau để đảm bảo bí mật công nghệ không bị rò rỉ, đến mức nhân viên ở bộ phận này không biết bộ phận khác đang thực hiện nhiệm vụ gì.
Chiến lược thu hút nhân tài và kỹ thuật đảo ngược
Một trong những yếu tố then chốt giúp dự án tăng tốc là chiến lược tuyển dụng nhân sự chất lượng cao. Trung Quốc đã chiêu mộ các kỹ sư và nhà khoa học người Trung Quốc từng làm việc tại ASML với các gói thu nhập hấp dẫn, bao gồm tiền thưởng ký hợp đồng từ 420.000 đến 700.000 USD cùng trợ cấp nhà ở. Để che giấu danh tính, nhiều chuyên gia được cấp thẻ căn cước với tên giả và làm việc trong môi trường khép kín tuyệt đối, nơi không ai bên ngoài được phép biết về vị trí và công việc thực sự của họ.
Về mặt kỹ thuật, Trung Quốc áp dụng triệt để phương pháp kỹ thuật đảo ngược (reverse engineering). Các công ty Trung Quốc đã mua lại các thiết bị chip cũ từ nước ngoài, thậm chí tìm kiếm nguồn linh kiện từ Nikon và Canon thông qua thị trường chợ đen và các công ty trung gian để phục vụ nghiên cứu. Tại Thâm Quyến, khoảng 100 sinh viên mới tốt nghiệp được giao nhiệm vụ tháo dỡ và phân tích từng bộ phận của máy quang khắc dưới sự giám sát của camera, với cơ chế thưởng tiền cho mỗi lần lắp ráp lại thành công.
Thách thức kỹ thuật và lộ trình thương mại hóa
Dù đạt được bước đầu khả quan, nguyên mẫu EUV của Trung Quốc vẫn đối mặt với nhiều thách thức lớn. Cỗ máy hiện tại có kích thước khổng lồ, chiếm gần hết diện tích một nhà xưởng, lớn hơn nhiều so với thiết bị chuẩn của ASML nhằm bù đắp cho các hạn chế về hiệu suất nguồn sáng. Viện Quang học, Cơ khí chính xác và Vật lý Trường Xuân (CIOMP) đã thành công trong việc tích hợp ánh sáng siêu cực tím vào hệ thống, nhưng hệ thống quang học vẫn cần tinh chỉnh đáng kể để bắt kịp tiêu chuẩn của Carl Zeiss AG (Đức) – nhà cung cấp thấu kính độc quyền cho ASML.
Theo giới phân tích, việc Trung Quốc làm chủ được công nghệ này chỉ là vấn đề thời gian vì nền tảng lý thuyết đã có sẵn. Jeff Koch, chuyên gia tại SemiAnalysis, nhận định rằng Trung Quốc sẽ đạt tiến bộ lớn nếu giải quyết được vấn đề nguồn sáng và kiểm soát ô nhiễm trong quá trình vận hành. Trong khi CEO của ASML từng dự báo Trung Quốc cần rất nhiều năm để bắt kịp, sự xuất hiện của nguyên mẫu này cho thấy tốc độ phát triển thực tế đang nhanh hơn dự kiến. Các nguồn tin nội bộ tiết lộ Bắc Kinh đặt mục tiêu sản xuất chip hoạt động được trên máy EUV nội địa vào năm 2028, mặc dù mốc thời gian 2030 được xem là thực tế hơn đối với giới quan sát.
#Cuộcchiếnbándẫn #MáyEUVTrungQuốc
Bước đột phá trong vòng vây cấm vận công nghệ
Nguyên mẫu máy quang khắc EUV vừa được hoàn thiện đang trong quá trình chạy thử nghiệm và đã tạo thành công ánh sáng siêu cực tím, mặc dù chưa thể sản xuất ra các chip hoạt động hoàn chỉnh. Đây là thiết bị tối quan trọng để sản xuất các dòng chip bán dẫn tiên tiến nhất hiện nay, phục vụ cho trí tuệ nhân tạo (AI), điện thoại thông minh và khí tài quân sự. Thành tựu này được xem là lời đáp trả của Bắc Kinh đối với những nỗ lực ngăn chặn của Mỹ kéo dài nhiều năm qua.
Công nghệ quang khắc EUV, vốn dùng để khắc các mạch điện siêu nhỏ lên tấm wafer silicon, hiện là độc quyền của tập đoàn ASML (Hà Lan). Với mức giá lên tới 250 triệu USD mỗi hệ thống, các cỗ máy này là xương sống trong dây chuyền sản xuất của TSMC, Intel hay Samsung để tạo ra chip cho Nvidia và AMD. Kể từ năm 2018, và đặc biệt thắt chặt vào năm 2022 dưới thời Tổng thống Joe Biden, Mỹ đã gây sức ép buộc ASML ngừng bán thiết bị EUV cho Trung Quốc. Thậm chí, các thiết bị quang khắc cực tím sâu (DUV) đời cũ hơn cũng bị đưa vào danh sách hạn chế nhằm nới rộng khoảng cách công nghệ giữa Trung Quốc và thế giới.
Dự án "Manhattan" của ngành bán dẫn Trung Quốc
Để đối phó với tình trạng khan hiếm công nghệ nguồn, Trung Quốc đã khởi động một chiến dịch bí mật cách đây khoảng 6 năm với quy mô và tầm quan trọng được ví như "Dự án Manhattan" – chương trình phát triển bom nguyên tử của Mỹ trong Thế chiến II. Dự án này được đặt dưới sự chỉ đạo của ông Đinh Tiết Tường (Ding Xuexiang), Chủ nhiệm Ủy ban Khoa học và Công nghệ Trung ương, với sự tham gia chủ chốt của tập đoàn công nghệ Huawei.
Tính bảo mật của dự án được đẩy lên mức tối đa. Hàng nghìn kỹ sư và nhân viên của Huawei tham gia dự án phải tuân thủ các quy định nghiêm ngặt như ngủ lại tại chỗ, không được về nhà trong suốt tuần làm việc và bị hạn chế sử dụng điện thoại cá nhân. Các nhóm làm việc được cô lập hoàn toàn với nhau để đảm bảo bí mật công nghệ không bị rò rỉ, đến mức nhân viên ở bộ phận này không biết bộ phận khác đang thực hiện nhiệm vụ gì.
Chiến lược thu hút nhân tài và kỹ thuật đảo ngược
Một trong những yếu tố then chốt giúp dự án tăng tốc là chiến lược tuyển dụng nhân sự chất lượng cao. Trung Quốc đã chiêu mộ các kỹ sư và nhà khoa học người Trung Quốc từng làm việc tại ASML với các gói thu nhập hấp dẫn, bao gồm tiền thưởng ký hợp đồng từ 420.000 đến 700.000 USD cùng trợ cấp nhà ở. Để che giấu danh tính, nhiều chuyên gia được cấp thẻ căn cước với tên giả và làm việc trong môi trường khép kín tuyệt đối, nơi không ai bên ngoài được phép biết về vị trí và công việc thực sự của họ.
Về mặt kỹ thuật, Trung Quốc áp dụng triệt để phương pháp kỹ thuật đảo ngược (reverse engineering). Các công ty Trung Quốc đã mua lại các thiết bị chip cũ từ nước ngoài, thậm chí tìm kiếm nguồn linh kiện từ Nikon và Canon thông qua thị trường chợ đen và các công ty trung gian để phục vụ nghiên cứu. Tại Thâm Quyến, khoảng 100 sinh viên mới tốt nghiệp được giao nhiệm vụ tháo dỡ và phân tích từng bộ phận của máy quang khắc dưới sự giám sát của camera, với cơ chế thưởng tiền cho mỗi lần lắp ráp lại thành công.
Thách thức kỹ thuật và lộ trình thương mại hóa
Dù đạt được bước đầu khả quan, nguyên mẫu EUV của Trung Quốc vẫn đối mặt với nhiều thách thức lớn. Cỗ máy hiện tại có kích thước khổng lồ, chiếm gần hết diện tích một nhà xưởng, lớn hơn nhiều so với thiết bị chuẩn của ASML nhằm bù đắp cho các hạn chế về hiệu suất nguồn sáng. Viện Quang học, Cơ khí chính xác và Vật lý Trường Xuân (CIOMP) đã thành công trong việc tích hợp ánh sáng siêu cực tím vào hệ thống, nhưng hệ thống quang học vẫn cần tinh chỉnh đáng kể để bắt kịp tiêu chuẩn của Carl Zeiss AG (Đức) – nhà cung cấp thấu kính độc quyền cho ASML.
Theo giới phân tích, việc Trung Quốc làm chủ được công nghệ này chỉ là vấn đề thời gian vì nền tảng lý thuyết đã có sẵn. Jeff Koch, chuyên gia tại SemiAnalysis, nhận định rằng Trung Quốc sẽ đạt tiến bộ lớn nếu giải quyết được vấn đề nguồn sáng và kiểm soát ô nhiễm trong quá trình vận hành. Trong khi CEO của ASML từng dự báo Trung Quốc cần rất nhiều năm để bắt kịp, sự xuất hiện của nguyên mẫu này cho thấy tốc độ phát triển thực tế đang nhanh hơn dự kiến. Các nguồn tin nội bộ tiết lộ Bắc Kinh đặt mục tiêu sản xuất chip hoạt động được trên máy EUV nội địa vào năm 2028, mặc dù mốc thời gian 2030 được xem là thực tế hơn đối với giới quan sát.
#Cuộcchiếnbándẫn #MáyEUVTrungQuốc
