A-Train The Seven
...'cause for once, I didn't hate myself.
Công ty Taiziwei Semiconductor của Trung Quốc vừa công bố phát triển thành công loại chất cản quang (photoresist) mới, đánh dấu một bước tiến quan trọng trong nỗ lực tự chủ công nghệ bán dẫn của quốc gia này.
Chất cản quang là vật liệu nhạy sáng, đóng vai trò then chốt trong quy trình quang khắc (photolithography) - công nghệ dùng để tạo ra các mạch điện tử trên tấm bán dẫn silicon. Loại chất cản quang mới của Taiziwei có tên T150A, đạt độ phân giải ấn tượng 120 nanomet trong quang khắc, vượt trội hơn hẳn các sản phẩm khác về khả năng chịu dung sai và độ ổn định. Sản phẩm này cũng cải thiện kết quả khắc sau khi hiện hình, mang lại độ thẳng đứng vượt trội cho thành phần cấu trúc trong các mẫu dày đặc, cho thấy khả năng cạnh tranh trực tiếp với các công ty hàng đầu thế giới như KrF.
Thành tựu này càng trở nên ý nghĩa hơn khi Taiziwei bắt đầu hành trình của mình từ việc phát triển nguyên liệu thô và đạt đến đỉnh cao là công nghệ bào chế.
Giới chuyên gia nhận định ngành bán dẫn Trung Quốc trong thập kỷ qua không chỉ phát triển nhanh chóng về quy mô mà còn có những bước tiến đáng kể về chất lượng và nội địa hóa. Theo nhà quản lý đầu tư Sun Yong, những tiến bộ hơn nữa trong thiết bị bán dẫn, vật liệu chip, tự động hóa thiết kế điện tử và bản quyền sở hữu trí tuệ sẽ tiếp tục thúc đẩy quá trình nội địa hóa ngành công nghiệp này.
Tuy nhiên, Trung Quốc vẫn đối mặt với nhiều thách thức trong việc bắt kịp các quốc gia dẫn đầu về công nghệ quang khắc. Theo Zheshang Securities, các nhà cung cấp trong nước mới chỉ chiếm 30% thị phần chất cản quang "lỗi thời" như G-line và I-line. Thị phần chất cản quang KrF giảm xuống còn khoảng 10%, trong khi ArF và EUV chỉ dưới 2%.
Báo cáo nhấn mạnh rằng Trung Quốc còn thiếu hụt các thành phần thiết yếu như monome, nhựa và chất nhạy quang cho chất cản quang, cũng như thiết bị kiểm tra và kiểm soát chất lượng. Dù vậy, bước đột phá về công nghệ chất cản quang của Taiziwei được kỳ vọng sẽ nâng cao năng lực sản xuất bán dẫn của Trung Quốc, góp phần thúc đẩy sự tăng trưởng lâu dài của ngành công nghiệp quan trọng này.
Chất cản quang là vật liệu nhạy sáng, đóng vai trò then chốt trong quy trình quang khắc (photolithography) - công nghệ dùng để tạo ra các mạch điện tử trên tấm bán dẫn silicon. Loại chất cản quang mới của Taiziwei có tên T150A, đạt độ phân giải ấn tượng 120 nanomet trong quang khắc, vượt trội hơn hẳn các sản phẩm khác về khả năng chịu dung sai và độ ổn định. Sản phẩm này cũng cải thiện kết quả khắc sau khi hiện hình, mang lại độ thẳng đứng vượt trội cho thành phần cấu trúc trong các mẫu dày đặc, cho thấy khả năng cạnh tranh trực tiếp với các công ty hàng đầu thế giới như KrF.
Thành tựu này càng trở nên ý nghĩa hơn khi Taiziwei bắt đầu hành trình của mình từ việc phát triển nguyên liệu thô và đạt đến đỉnh cao là công nghệ bào chế.
Giới chuyên gia nhận định ngành bán dẫn Trung Quốc trong thập kỷ qua không chỉ phát triển nhanh chóng về quy mô mà còn có những bước tiến đáng kể về chất lượng và nội địa hóa. Theo nhà quản lý đầu tư Sun Yong, những tiến bộ hơn nữa trong thiết bị bán dẫn, vật liệu chip, tự động hóa thiết kế điện tử và bản quyền sở hữu trí tuệ sẽ tiếp tục thúc đẩy quá trình nội địa hóa ngành công nghiệp này.
Tuy nhiên, Trung Quốc vẫn đối mặt với nhiều thách thức trong việc bắt kịp các quốc gia dẫn đầu về công nghệ quang khắc. Theo Zheshang Securities, các nhà cung cấp trong nước mới chỉ chiếm 30% thị phần chất cản quang "lỗi thời" như G-line và I-line. Thị phần chất cản quang KrF giảm xuống còn khoảng 10%, trong khi ArF và EUV chỉ dưới 2%.
Báo cáo nhấn mạnh rằng Trung Quốc còn thiếu hụt các thành phần thiết yếu như monome, nhựa và chất nhạy quang cho chất cản quang, cũng như thiết bị kiểm tra và kiểm soát chất lượng. Dù vậy, bước đột phá về công nghệ chất cản quang của Taiziwei được kỳ vọng sẽ nâng cao năng lực sản xuất bán dẫn của Trung Quốc, góp phần thúc đẩy sự tăng trưởng lâu dài của ngành công nghiệp quan trọng này.
