Bỉ Ngạn Hoa
Moderator
Gã khổng lồ sản xuất công cụ chip ASML của Hà Lan vừa công bố đang sản xuất chiếc máy quang khắc "High NA EUV" mới trị giá 350 triệu USD to cỡ một chiếc xe buýt hai tầng. Đây là sản phẩm trọng tâm trong nỗ lực giữ vững vị trí dẫn đầu trong thị trường công cụ sản xuất chip trị giá 125 tỷ USD.
Chiếc máy quang khắc High NA EUV vừa được trưng bày lần đầu tiên tại trụ sở Hà Lan của ASML, công ty công nghệ lớn nhất Châu Âu tính theo giá trị thị trường.
ASML cho biết họ dự kiến sẽ xuất xưởng “một số” sản phẩm này trong năm nay và vẫn còn nhiều việc phải làm trong việc tùy chỉnh và cài đặt.
“Chúng tôi tiếp tục chế tạo và phát triển, còn rất nhiều việc phải làm để hiệu chỉnh sản phẩm để đảm bảo nó phù hợp với hệ thống sản xuất”, Monique Mols, người phát ngôn của ASML cho biết.
ASML là nhà sản xuất máy quang khắc cực tím (EUV) duy nhất trên thị trường hiện nay. Đây là công nghệ cần thiết để sản xuất những con chip tiên tiến nhất.
High NA EUV là thế hệ máy quang khắc mới nhất của ASML. Tuy nhiên, các nhà phân tích cho biết vẫn còn một câu hỏi mở là có bao nhiêu khách hàng sẵn sàng chuyển sang các thiết bị giá cao này.
Jeff Koch của Semianalysis cho biết: “Mặc dù một số nhà sản xuất chip có thể ứng dụng High NA EUV sớm hơn nhằm nỗ lực giành vị trí dẫn đầu về công nghệ, nhưng phần lớn sẽ không áp dụng sản phẩm này cho đến khi nó có ý nghĩa về mặt kinh tế”.
Khách hàng có thể chọn chờ đợi và khai thác thêm các công cụ hiện có. Các tính toán của Jeff Koch cho thấy việc chuyển đổi từ công nghệ cũ sang công nghệ quang khắc mới này của ASML sẽ chỉ mang lại hiệu quả về mặt chi phí vào năm 2030-2031, tức khoảng 6-7 năm nữa.
Ông nói thêm: “Điều này có nghĩa là ASML có thể sẽ dư thừa công suất High-NA EUV vào giữa giai đoạn mở rộng nhà máy của họ vào năm 2027-28”.
Giám đốc điều hành ASML Peter Wennink nói với Reuters vào tháng 1 rằng các nhà phân tích có thể đang đánh giá thấp công nghệ này.
Ông nói trong một cuộc phỏng vấn: “Tất cả những gì chúng tôi hiện đang thấy trong cuộc thảo luận với khách hàng của mình là High-NA EUV rẻ hơn”.
Greet Storms, người đứng đầu bộ phận quản lý sản phẩm High-NA EUV của ASML, cho biết vào thứ Sáu rằng thời điểm bùng nổ nhu cầu máy quang khắc High-NA EUV sẽ đến vào khoảng năm 2026-2027.
“Đây là thời điểm khách hàng sẽ đưa nó vào sản xuất số lượng lớn”, bà nói với các phóng viên.
Intel đã nhận được một chiếc High-NA EUV thí điểm đầu tiên vào cuối năm ngoái và cho biết họ có kế hoạch bắt đầu sản xuất vào năm tới nhưng không đưa ra thông tin chi tiết về quy mô hoạt động.
TSMC và Samsung đều cho biết họ có ý định sử dụng High-NA EUV nhưng chưa nêu rõ thời điểm.
ASML cho biết họ đã nhận được từ 10 đến 20 đơn đặt hàng cho đến nay - bao gồm các thiết bị thí điểm dành cho SK Hynix, Micron và đang xây dựng năng lực để có thể cung cấp 20 chiếc mỗi năm vào năm 2028.
Không có hãng Trung Quốc nào có trong danh sách đặt mua High-NA EUV. Trung Quốc là thị trường lớn thứ hai của ASML vào năm ngoái nhưng đang bị Mỹ tìm cách hạn chế xuất khẩu công nghệ quang khắc tiên tiến sang Trung Quốc nhằm cản trở tham vọng bán dẫn của Bắc Kinh.
Việc sử dụng nhanh chóng High-NA EUV sẽ thúc đẩy doanh thu và lợi nhuận của ASML, đồng thời có thể mở rộng vị thế thống trị của hãng này trên thị trường hệ thống in thạch bản, những máy sử dụng ánh sáng để giúp in mạch điện của chip.
Theo ASML, công cụ High NA EUV mới sẽ cho phép các nhà sản xuất chip thu nhỏ kích thước của các chi tiết nhỏ nhất trên chip của họ tới 40%, cho phép mật độ bóng bán dẫn tăng gần gấp ba.
ASML từng cạnh tranh với Nikon và Canon của Nhật Bản để sản xuất các máy in thạch bản được sử dụng để tạo ra các thế hệ chip đời cũ. Nhưng vào cuối những năm 2010, ASML đã trở thành công ty đầu tiên và duy nhất tiếp thị công cụ in thạch bản sử dụng EUV hay ánh sáng bước sóng 13,5 nanomet.
Cả máy EUV nguyên bản và máy High-NA EUV mới đều tạo ra ánh sáng EUV bằng cách làm bay hơi các giọt thiếc bằng xung laser kép 50.000 lần một giây.
ASML cho biết thay đổi lớn nhất của máy High-NA EUV mới là hệ thống quang học lớn hơn bao gồm các gương có hình dạng bất thường, do Carl Zeiss chế tạo, được đánh bóng mịn đến mức chúng phải được giữ trong chân không. Các gương này thu thập và tập trung nhiều ánh sáng hơn so với các thiết bị tiền nhiệm.
ASML cho biết họ dự kiến sẽ xuất xưởng “một số” sản phẩm này trong năm nay và vẫn còn nhiều việc phải làm trong việc tùy chỉnh và cài đặt.
“Chúng tôi tiếp tục chế tạo và phát triển, còn rất nhiều việc phải làm để hiệu chỉnh sản phẩm để đảm bảo nó phù hợp với hệ thống sản xuất”, Monique Mols, người phát ngôn của ASML cho biết.
ASML là nhà sản xuất máy quang khắc cực tím (EUV) duy nhất trên thị trường hiện nay. Đây là công nghệ cần thiết để sản xuất những con chip tiên tiến nhất.
High NA EUV là thế hệ máy quang khắc mới nhất của ASML. Tuy nhiên, các nhà phân tích cho biết vẫn còn một câu hỏi mở là có bao nhiêu khách hàng sẵn sàng chuyển sang các thiết bị giá cao này.
Jeff Koch của Semianalysis cho biết: “Mặc dù một số nhà sản xuất chip có thể ứng dụng High NA EUV sớm hơn nhằm nỗ lực giành vị trí dẫn đầu về công nghệ, nhưng phần lớn sẽ không áp dụng sản phẩm này cho đến khi nó có ý nghĩa về mặt kinh tế”.
Khách hàng có thể chọn chờ đợi và khai thác thêm các công cụ hiện có. Các tính toán của Jeff Koch cho thấy việc chuyển đổi từ công nghệ cũ sang công nghệ quang khắc mới này của ASML sẽ chỉ mang lại hiệu quả về mặt chi phí vào năm 2030-2031, tức khoảng 6-7 năm nữa.
Ông nói thêm: “Điều này có nghĩa là ASML có thể sẽ dư thừa công suất High-NA EUV vào giữa giai đoạn mở rộng nhà máy của họ vào năm 2027-28”.
Giám đốc điều hành ASML Peter Wennink nói với Reuters vào tháng 1 rằng các nhà phân tích có thể đang đánh giá thấp công nghệ này.
Ông nói trong một cuộc phỏng vấn: “Tất cả những gì chúng tôi hiện đang thấy trong cuộc thảo luận với khách hàng của mình là High-NA EUV rẻ hơn”.
Greet Storms, người đứng đầu bộ phận quản lý sản phẩm High-NA EUV của ASML, cho biết vào thứ Sáu rằng thời điểm bùng nổ nhu cầu máy quang khắc High-NA EUV sẽ đến vào khoảng năm 2026-2027.
“Đây là thời điểm khách hàng sẽ đưa nó vào sản xuất số lượng lớn”, bà nói với các phóng viên.
Intel đã nhận được một chiếc High-NA EUV thí điểm đầu tiên vào cuối năm ngoái và cho biết họ có kế hoạch bắt đầu sản xuất vào năm tới nhưng không đưa ra thông tin chi tiết về quy mô hoạt động.
TSMC và Samsung đều cho biết họ có ý định sử dụng High-NA EUV nhưng chưa nêu rõ thời điểm.
ASML cho biết họ đã nhận được từ 10 đến 20 đơn đặt hàng cho đến nay - bao gồm các thiết bị thí điểm dành cho SK Hynix, Micron và đang xây dựng năng lực để có thể cung cấp 20 chiếc mỗi năm vào năm 2028.
Không có hãng Trung Quốc nào có trong danh sách đặt mua High-NA EUV. Trung Quốc là thị trường lớn thứ hai của ASML vào năm ngoái nhưng đang bị Mỹ tìm cách hạn chế xuất khẩu công nghệ quang khắc tiên tiến sang Trung Quốc nhằm cản trở tham vọng bán dẫn của Bắc Kinh.
Việc sử dụng nhanh chóng High-NA EUV sẽ thúc đẩy doanh thu và lợi nhuận của ASML, đồng thời có thể mở rộng vị thế thống trị của hãng này trên thị trường hệ thống in thạch bản, những máy sử dụng ánh sáng để giúp in mạch điện của chip.
Theo ASML, công cụ High NA EUV mới sẽ cho phép các nhà sản xuất chip thu nhỏ kích thước của các chi tiết nhỏ nhất trên chip của họ tới 40%, cho phép mật độ bóng bán dẫn tăng gần gấp ba.
ASML từng cạnh tranh với Nikon và Canon của Nhật Bản để sản xuất các máy in thạch bản được sử dụng để tạo ra các thế hệ chip đời cũ. Nhưng vào cuối những năm 2010, ASML đã trở thành công ty đầu tiên và duy nhất tiếp thị công cụ in thạch bản sử dụng EUV hay ánh sáng bước sóng 13,5 nanomet.
Cả máy EUV nguyên bản và máy High-NA EUV mới đều tạo ra ánh sáng EUV bằng cách làm bay hơi các giọt thiếc bằng xung laser kép 50.000 lần một giây.
ASML cho biết thay đổi lớn nhất của máy High-NA EUV mới là hệ thống quang học lớn hơn bao gồm các gương có hình dạng bất thường, do Carl Zeiss chế tạo, được đánh bóng mịn đến mức chúng phải được giữ trong chân không. Các gương này thu thập và tập trung nhiều ánh sáng hơn so với các thiết bị tiền nhiệm.
