Theo nghiên cứu từ các kỹ sư của ASML và đối tác quang học Carl Zeiss, thế hệ máy quang khắc kế tiếp của ASML có thể hoàn thiện trong khoảng một thập kỷ tới, giúp in các đường vi mạch nhỏ hơn trên nền tảng công nghệ sẵn có.
Một bài báo bình duyệt từ các kỹ sư của ASML và đối tác quang học Carl Zeiss cho biết, thiết bị kế nhiệm cỗ máy sản xuất chip tân tiến nhất hiện nay của ASML có thể sẵn sàng sau khoảng 10 năm nữa.
Cỗ máy này, mang tên "Hyper NA", được kỳ vọng sẽ in được các vi mạch nhỏ hơn trong khi vẫn tái sử dụng được phần lớn công nghệ hiện có của hai doanh nghiệp, dù nhiều thách thức kỹ thuật vẫn còn ở phía trước.
Thiết bị này vốn đã được ASML bắt đầu phát triển nhưng chưa đưa ra cam kết sản xuất thương mại. Dẫu vậy, nó đóng vai trò quan trọng đối với triển vọng tương lai của hãng cũng như các đối tác và đối thủ cạnh tranh. Hiện ASML chưa đưa ra bình luận ngay lập tức.
Nhờ vị thế độc quyền đối với các cỗ máy quang khắc sử dụng tia cực tím cực sâu (EUV) để in các vi mạch siêu nhỏ cho chip AI, ASML hiện là doanh nghiệp có giá trị vốn hóa thị trường lớn nhất châu Âu.
Dù các nhà sản xuất bán dẫn đang nỗ lực cải tiến chip thông qua thiết kế 3D, việc thu nhỏ các chi tiết mạch vẫn là yếu tố then chốt quyết định tốc độ và mức tiêu thụ điện năng, trong đó quang khắc là rào cản kỹ thuật mang tính giới hạn.
Trong số các nhà sản xuất bán dẫn, Intel đã bắt đầu đưa High NA vào quy trình sản xuất. Tháng trước, Samsung và SK Hynix cho biết họ sẽ tiếp bước vào năm 2028, trong khi TSMC dự kiến triển khai vào năm 2030.
Theo bài báo, Zeiss hiện đã có thể chế tạo các hệ gương quang học đủ chuẩn xác cho Hyper NA. Kích thước của cỗ máy mới cũng sẽ chỉ nhỉnh hơn một chút so với các thiết bị High NA hiện nay – vốn đã to tương đương một chiếc xe buýt hai tầng.
Xa hơn thế hệ Hyper NA, các tác giả cho rằng các công cụ tiếp theo có thể sẽ phải sử dụng bước sóng ánh sáng ngắn hơn, điều hiện vẫn nằm trong phạm vi nghiên cứu học thuật. Họ cũng khẳng định nguồn sáng hiện tại của ASML "có thể được tái sử dụng nguyên trạng" cho Hyper NA, đồng thời ghi chú rằng kỹ thuật thay thế bằng laser electron tự do cũng sẽ không làm thay đổi thiết kế của hệ thống chiếu sáng.
Những nhận định trên mang ý nghĩa quan trọng đối với các công ty khởi nghiệp tại Mỹ, bao gồm xLight – đơn vị phát triển nguồn sáng laser electron tự do mà Elon Musk từng ám chỉ có thể ưu tiên áp dụng tại nhà máy chip Terafab ở Texas – và Substrate, công ty đang theo đuổi hướng đi quang khắc bằng tia X.
Một bài báo bình duyệt từ các kỹ sư của ASML và đối tác quang học Carl Zeiss cho biết, thiết bị kế nhiệm cỗ máy sản xuất chip tân tiến nhất hiện nay của ASML có thể sẵn sàng sau khoảng 10 năm nữa.
Cỗ máy này, mang tên "Hyper NA", được kỳ vọng sẽ in được các vi mạch nhỏ hơn trong khi vẫn tái sử dụng được phần lớn công nghệ hiện có của hai doanh nghiệp, dù nhiều thách thức kỹ thuật vẫn còn ở phía trước.
Thiết bị này vốn đã được ASML bắt đầu phát triển nhưng chưa đưa ra cam kết sản xuất thương mại. Dẫu vậy, nó đóng vai trò quan trọng đối với triển vọng tương lai của hãng cũng như các đối tác và đối thủ cạnh tranh. Hiện ASML chưa đưa ra bình luận ngay lập tức.
Nhờ vị thế độc quyền đối với các cỗ máy quang khắc sử dụng tia cực tím cực sâu (EUV) để in các vi mạch siêu nhỏ cho chip AI, ASML hiện là doanh nghiệp có giá trị vốn hóa thị trường lớn nhất châu Âu.
Chip nhỏ hơn và nhanh hơn
Bài báo công bố trên số tháng 10 của tạp chí Journal of Micro/Nanopatterning, Materials and Metrology chỉ ra rằng công nghệ Hyper NA có thể in các chi tiết mạch nhỏ tới 5 nanomet, tức nhỏ hơn hơn một phần ba so với cỗ máy EUV "High NA" hiện tại của ASML.Dù các nhà sản xuất bán dẫn đang nỗ lực cải tiến chip thông qua thiết kế 3D, việc thu nhỏ các chi tiết mạch vẫn là yếu tố then chốt quyết định tốc độ và mức tiêu thụ điện năng, trong đó quang khắc là rào cản kỹ thuật mang tính giới hạn.
Trong số các nhà sản xuất bán dẫn, Intel đã bắt đầu đưa High NA vào quy trình sản xuất. Tháng trước, Samsung và SK Hynix cho biết họ sẽ tiếp bước vào năm 2028, trong khi TSMC dự kiến triển khai vào năm 2030.
Theo bài báo, Zeiss hiện đã có thể chế tạo các hệ gương quang học đủ chuẩn xác cho Hyper NA. Kích thước của cỗ máy mới cũng sẽ chỉ nhỉnh hơn một chút so với các thiết bị High NA hiện nay – vốn đã to tương đương một chiếc xe buýt hai tầng.
Xa hơn thế hệ Hyper NA, các tác giả cho rằng các công cụ tiếp theo có thể sẽ phải sử dụng bước sóng ánh sáng ngắn hơn, điều hiện vẫn nằm trong phạm vi nghiên cứu học thuật. Họ cũng khẳng định nguồn sáng hiện tại của ASML "có thể được tái sử dụng nguyên trạng" cho Hyper NA, đồng thời ghi chú rằng kỹ thuật thay thế bằng laser electron tự do cũng sẽ không làm thay đổi thiết kế của hệ thống chiếu sáng.
Những nhận định trên mang ý nghĩa quan trọng đối với các công ty khởi nghiệp tại Mỹ, bao gồm xLight – đơn vị phát triển nguồn sáng laser electron tự do mà Elon Musk từng ám chỉ có thể ưu tiên áp dụng tại nhà máy chip Terafab ở Texas – và Substrate, công ty đang theo đuổi hướng đi quang khắc bằng tia X.
